|
三星和新思科技推出7LPP定制设计参考流程 重点： ·新思科技Custom Design Platform为三星7LPP工艺技术提供经认证的工具、PDK、仿真模型、运行集(runsets)以及定制参考流程。 ·新思科技Custom Compiler™版图，HSPICE®仿真，FineSim® SPICE仿真，CustomSim™FastSPICE仿真，StarRC™寄生参数提取和IC Validator物理signoff工具已通过三星7LPP设计认证。 ·使用新思科技工具的三星7LPP定制设计参考流程包括仿真、蒙特卡罗分析、视觉辅助版图自动化、寄生分析和电迁移相关教程。 新思科技(Synopsys, Inc. )宣布，新思科技Custom Design Platform已经成功通过全球领先的先进半导体技术企业三星电子的认证，可用于三星7nm LPP(低功耗+)工艺。三星7LPP工艺是其首款使用极紫外(EUV)光刻的半导体工艺技术，与10nm FinFET相比，可大大降低复杂性，并提供更高的良率和更快的周转时间。新思科技定制设计工具已针对三星7LPP相关要求进行更新。此外，三星还将提供面向新思科技的工艺设计套件(PDK)和定制设计参考流程。 新思科技 Custom Design Platform已通过三星7LPP工艺技术认证。该平台以Custom Compiler定制设计和版图环境为核心，并包括HSPICE、FineSim SPICE和CustomSim FastSPICE电路仿真、StarRC寄生参数提取以及IC Validator物理验证。为了支持高效的7LPP定制设计，新思科技和三星共同开发了参考流程，其中包含一组使用说明，描述7nm设计和版图的关键要求。这些说明包括示例设计数据和执行典型设计和版图任务的步骤，涵盖的主题包括电气规则检查、电路仿真、混合信号仿真、蒙特卡罗分析、版图、寄生分析和电迁移。 为了通过三星认证，新思科技对工具进行了优化，以满足7nm设计的严苛要求，其中包括： · 精确的FinFET器件建模与器件老化效应 · 先进的蒙特卡罗模拟功能，实现高效分析 · 用于模拟和RF设计的高性能瞬态噪声仿真 · 高性能的版图后仿真，实现寄生感知设计和仿真 · 用于器件电压检查的动态电路ERC · 高性能晶体管级EM/IR分析，最大限度地减少过度设计 · FinFET器件阵列的高效符号化编辑 · EUV支持 · 基于覆盖的过孔电阻提取 三星营销团队副总裁Ryan Sanghyun Lee表示：“我们与新思科技的定制设计合作在过去两年中有了很大发展。通过此次通力合作，我们为7LPP工艺增添了新思科技Custom Design Platform支持，包括基于新思科技工具的定制设计参考流程。” 新思科技产品营销副总裁Bijan Kiani表示：“我们一直与三星紧密合作，以简化使用FinFET工艺技术的定制设计。我们合作推出了认证工具、参考流程、PDK、仿真模型和运行集，帮助三星客户能够使用7LPP工艺实现可靠的定制设计。” |
|
|
